Dépôt sélectif de surface par iCVD H/F
Stage Grenoble (Isère) Développement informatique
Description de l'offre
Détail de l'offre
Informations générales
Entité de rattachement
Le Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA) est un organisme public de recherche.Acteur majeur de la recherche, du développement et de l'innovation, le CEA intervient dans le cadre de ses quatre missions :
. la défense et la sécurité
. l'énergie nucléaire (fission et fusion)
. la recherche technologique pour l'industrie
. la recherche fondamentale (sciences de la matière et sciences de la vie).
Avec ses 16000 salariés -techniciens, ingénieurs, chercheurs, et personnel en soutien à la recherche- le CEA participe à de nombreux projets de collaboration aux côtés de ses partenaires académiques et industriels.
Référence
2019-10534Description du poste
Domaine
Technologies micro et nano
Contrat
Stage
Intitulé de l'offre
Dépôt sélectif de surface par iCVD H/F
Sujet de stage
Dans le but de réduire les coûts de fabrication des circuits intégrés et de poursuivre leur miniaturisation, des approches reposant sur l'utilisation de procédés de dépôts sélectifs sont désormais envisagées en complément de la photolitographie. Les développements récents sont très majoritairement liés à l'utilisation du dépôt par couches atomiques (ALD) qui est une technique très appropriée pour le développement d'un procédé sélectif en raison de sa grande sensibilité à la chimie de surface. Mais de nouvelles approches doivent être développées pour améliorer la sélectivité des procédés et permettre la croissance de couches de plusieurs dizaines de nm.
Durée du contrat (en mois)
6 mois
Description de l'offre
Une première partie concernera la mise en place d’un dépôt sélectif localisé (ASD pour Area Selective Deposition) basé sur l’utilisation d’une couche organique permettant la désactivation des réactions chimiques de surface en ALD. Cette approche qui utilise généralement des monocouches auto-assemblées, sera réalisée ici à l’aide d’une technique innovante de dépôt de polymères par CVD (iCVD).
En parallèle, on s’intéressera à l’étude de la croissance localisée d’un diélectrique par iCVD en jouant sur la nature de la sous-couche (métaux vs diélectriques, hydrophiles vs hydrophobes, …). Des analyses de surface et des caractérisations des couches minces (par ellipsométrie, FTIR, AFM, …) permettront d’identifier la meilleure approche afin d’obtenir des sélectivités les plus élevées possibles pour permettre le dépôt sélectif localisé de couches « épaisses ».
Pour postuler à cette annonce, merci de contacter Mr JOUSSEAUME Vincent à l'adresse suivante : vincent.jousseaume@cea.fr
Profil recherché
Profil du candidat
Master 2