STAGE Caractérisation optimisation procédé gravure contact technos M40 M/F

Description de l'offre

General information

Reference

2019-2909  

Job level

30 - Graduate Entry Level

Position description

Posting title

STAGE Caractérisation optimisation procédé gravure contact technos M40 M/F

Regular/Temporary

Temporary

Job description

Les nouvelles applications des circuits intégrés demandent toujours plus de performance et nous imposent de garantir la fiabilité dans le temps de nos produits.

Dans cette optique, le placement des différents niveaux d’un circuit intégré les uns par rapport aux autres devient un paramètre critique. Le but de ce stage est de caractériser et d’étudier le déplacement du niveau contact par rapport à la grille du transistor pendant l’étape de gravure (contact shifting).

Pour cela, vous commencerez par identifier à quelle étape de gravure apparaît le déplacement, puis vous caractériserez l’impact de différents paramètres process, équipement ou intégration (matériaux, épaisseur) sur ce contact shifting.

Pendant ce stage, qui se déroulera au sein du département gravure, vous serez amené.e à travailler en salle blanche sur les équipements de gravure de dernière génération, en étroite collaboration avec les départements de lithographie et de métrologie.

Profile

BAC + 5
Connaissances en microélectronique, fabrication des composants, physique des matériaux, métrologie

Position localisation

Job location

Europe, France, Crolles

Candidate criteria

Education level required

5 - Master degree

Experience level required

Less than 2 years

Languages

English (1- Basic)

Requester

Desired start date

02/03/2020