Nouvelles méthodologies pour la mesure du focus et de l'overlay de la litho. H/F (Instrumentation, métrologie et contrôle)

Description de l'offre

Domaine : Instrumentation, métrologie et contrôle

Contrat : Alternance

Description du poste :

But:
Evaluer le CD-SEM à faisceaux inclinés et la scatterométrie réflective pour la mesure du focus et de l’overlay des étapes de photolithographie
Comparer les techniques de métrologie pour améliorer la précision de mesure.
Etablir des références de travail pour gagner en justesse de mesure.
Aspect novateur:
Benchmark / corrélation de techniques de métrologie pour les mesures de focus et d’overlay (explorer éventuellement l’hybridation et l’injection de données, machine learning à envisager).
Mis en place de référence de travail pour les mesures de focus et d’overlay
Instrumentation :
CD-SEM à faisceaux inclinés, scattérometrie résolue en angle , scattérometrie réflective, microscope optique.

Merci d'envoyer vos CV et LM à : yoann.blancquaert@cea.fr




Ville : Grenoble