Dans le contexte d’une miniaturisation des circuits imprimés dans l’industrie de la microélectronique, les méthodes de structuration optiques appelées photolithographies arrivent en limite de résolution. L’utilisation complémentaire de l’auto-assemblage dirigé (DSA) de copolymère à blocs permet de repousser les dimensions critiques (CD) atteignables tout en multipliant la densité des structures obtenues. Rapides, bas coût et compatibles avec les équipements déjà disponibles dans l’industrie, les différents procédés DSA mettent en jeu des matériaux qui peuvent former des motifs de dimensions inférieures à la vingtaine de nanomètre.

L’objectif de ce stage consiste à disposer d’une technique de structuration de nano-pilliers, haute résolution et faible coût, en combinant les techniques de lithographie conventionnelle et d’auto-assemblage de copolymères à blocs. La compréhension des mécanismes d’auto-organisation couplée aux interactions des chaînes de polymère avec le substrat sera nécessaire pour contrôler l’orientation des nano-domaines. Pour cela, différentes méthodes de caractérisation morphologiques et structurales seront utilisées : microscopie électronique à balayage, ellipsométrie, AFM, mesure d’énergie de surface, etc. Les paramètres mis en jeu au cours du procédé DSA seront ensuite optimisés afin de déterminer les meilleures performances atteignables en terme d’uniformité et de défectivité des motifs. Ces performances seront finalement comparées aux recommandations de l’IRDS.

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