Des surfaces aplanies à l'échelle atomique à l'aide de procédés de texturation stables H/F
Stage Grenoble (Isère) Développement informatique
Description de l'offre
Détail de l'offre
Informations générales
Entité de rattachement
Le Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA) est un organisme public de recherche.Acteur majeur de la recherche, du développement et de l'innovation, le CEA intervient dans le cadre de ses quatre missions :
. la défense et la sécurité
. l'énergie nucléaire (fission et fusion)
. la recherche technologique pour l'industrie
. la recherche fondamentale (sciences de la matière et sciences de la vie).
Avec ses 16000 salariés -techniciens, ingénieurs, chercheurs, et personnel en soutien à la recherche- le CEA participe à de nombreux projets de collaboration aux côtés de ses partenaires académiques et industriels.
Référence
2019-10475Description du poste
Domaine
Technologies micro et nano
Contrat
Stage
Intitulé de l'offre
Des surfaces aplanies à l'échelle atomique à l'aide de procédés de texturation stables H/F
Sujet de stage
Si les puces électroniques se retrouvent aujourd'hui dans de très nombreux objets de la vie quotidienne, c'est qu'elles sont fabriquées en série et contiennent des milliards de composants. Cette production fait appel à des technologies d'une extrême complexité et nécessite d'avoir des procédés de fabrication stables et répétables afin de toujours atteindre les mêmes performances.
Durée du contrat (en mois)
6 mois
Description de l'offre
La CMP - polissage mécano-chimique - est la seule étape technologique aujourd’hui largement utilisée dans toute l’industrie de la microélectronique (processeurs, imageurs, mémoires, capteurs, …) pour obtenir des surfaces aplanies à l’échelle atomique. Cette étape nécessite l’utilisation de consommables appelés tissu de polissage combiné avec une chimie abrasive pour texturer la surface des puces. La stabilité de ce procédé est dépendante de l’évolution de la micro-texture du tissu de polissage au cours de sa durée de vie. L’amélioration des performances et des coûts des procédés CMP nécessite de maitriser cette texturation à l’aide de disques diamantés et de recettes appropriées.
L’objectif du stage sera d’atteindre un bon état de surface du tissu de polissage le plus rapidement possible dès le début de sa durée de vie. Le set de consommables sera figé, les paramètres de la recette équipement seront les principaux leviers à investiguer.
Travail demandé :
-Caractérisation des surfaces des tissus et des disques par microscopie confocale
-Caractérisation des performances CMP obtenues sur plaques polies (taux d’enlèvement, rugosité, état de surface…)
-Optimisation de pré conditionnement des tissus dans le but d’être stable le plus rapidement possible.
Pour postuler à cette offre, merci de contacter Mr PERROT Cédric à l'adresse suivant : cedric.perrot@cea.fr
Profil recherché
Profil du candidat
Bac +5