Alternance:Etude de dépôt assisté par plasma couronne pour composants logiques H/F (Technologies micro et nano)

Description de l'offre

Domaine : Technologies micro et nano

Contrat : Alternance

Description du poste :

Le travail, à dominante expérimentale, se déroulera majoritairement en salle blanche, sur des équipements acceptant des plaques de diamètres 300mm. Il portera sur le développement de procédés de dépôt chimique assisté par plasma d’oxyde et de nitrure. La mise en œuvre de caractérisation des couches minces par ellipsométrie, microscopie électronique, et analyse dispersive en énergie, sera utilisée pour caractériser la vitesse, l’uniformité et reproductibilité des dépôts, la stœchiométrie des films et leurs résistances aux gravures humides.
Le travail comportera des interactions avec les équipes projets du CEA-Leti et les partenaires industriels. L’objectif de ce travail d’alternance est de définir les paramètres du procédé permettant d’intégrer ces dépôts couronnes sur des technologies 3D à très forte densité, d’en maitriser la reproductibilité et d’en cerner les limites. In fine, le travail visera le transfert de ces développements vers les partenaires industriels du CEA-Leti.
Merci d'envoyer vos CV et LM à : francois.boulard@cea.fr


Ecole ingénieur

Ville : Grenoble